28 June 2021

2025年全球面板及半导体正型光刻胶市场规模将达57亿美金

电子材料

由于KrF光刻胶产能受限以及全球晶圆厂积极扩产等原因,传日本信越化学近日已经向中国大陆多家晶圆厂限制供货,使得国内多家晶圆厂将会面临KrF光刻胶缺货的处境。

半导体用光刻胶通过不断缩短曝光波长以提高极限分辨率,世界芯片工艺水平目前已跨入微纳米级别,光刻胶的波长由紫外宽谱逐步至g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm),以及最先进的EUV(<13.5nm)线水平。目前,国内主要的半导体光刻胶供应商有北京科华、南大光电、晶瑞股份、上海新阳等公司。

面板光刻胶按光刻胶特性主要分为正型和负型两类光刻胶。负型光刻胶在曝光区域发生交联,难溶于显影液,光刻胶得以保留,非曝光区域易溶于显影液;而正型光刻胶则相反,曝光区域容易溶解于显影液,非曝光区不易溶于显影液。国内企业在面板光刻胶方面有较大突破,北旭、飞凯材料、欣奕华、博砚、雅克科技等均已放量出货。 

随着显示面板和晶圆产能的扩张,全球光刻胶需求量也在不断增加。以面板和半导体正型光刻胶市场需求为例,至2025年全球面板及半导体正型光刻胶市场规模将实现年均复合增长率3.2%至57亿美金。

 
图示:2016-2025年全球显示及半导体用正型光刻胶材料市场规模预测,来源:CINNO Research

从光刻胶市场竞争格局来看,国内光刻胶材料在面板显示和半导体领域已经取得一定实绩,但仍然存在技术相对薄弱,国产化率较低等问题,国内供应链上下游仍需努力协作,提高产品开发能力,提升产品品质,加速推进国产化进程,解决供应链安全问题。

 

 

相关文章

选择产业分类,获取最新行业动态

申请试用
会员登录
Copyright ⓒ Shanghai CINNO Optoelectronics Industry Consultants Co.,Ltd 沪ICP备18034260号-1